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簡(jiǎn)要描述:TSA二階微分火焰光譜痕量鈉分析系統(tǒng),是專門(mén)用于檢測(cè)火力發(fā)電廠、核電站水、汽系統(tǒng)的“µg/L"(“µg/kg")級(jí)痕量Na+離子含量的“二階微分火焰發(fā)射光譜儀"。 TSA火焰光譜痕量鈉分析系統(tǒng)
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TSA二階微分火焰光譜痕量鈉分析系統(tǒng)
TSA二階微分火焰光譜痕量鈉分析系統(tǒng),是專門(mén)用于檢測(cè)火力發(fā)電廠、核電站水、汽系統(tǒng)的“µg/L”(“µg/kg”)級(jí)痕量Na+離子含量的“二階微分火焰發(fā)射光譜儀”。 采用“二階微分火焰發(fā)射光譜儀”的技術(shù),實(shí)現(xiàn)了對(duì)痕量鈉元素的特征譜線的快速掃描,生成和輸出穩(wěn)定的特征譜線的二階導(dǎo)數(shù)譜,具有*的自動(dòng)扣除連續(xù)背景干擾的功能,實(shí)現(xiàn)了對(duì)鈉的準(zhǔn)確、可靠、穩(wěn)定、快速、方便的測(cè)量,在技術(shù)性能上*能滿足火力發(fā)電廠、商業(yè)核電站和電力試驗(yàn)研究院(所)對(duì)水、汽質(zhì)量化學(xué)監(jiān)督的實(shí)際需要,鈉的檢出限達(dá)到了小于0.1μg/L(kg)的*水平。
一、儀器介紹:
檢測(cè)對(duì)象:痕量Na+離子(電站水、汽系統(tǒng)中)
儀器名稱:二階微分火焰光譜痕量鈉分析儀、二階微分火焰光譜痕量鈉智能分析系統(tǒng)
型 號(hào):TSA型
執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):
《DL/T 502-2006 火力發(fā)電廠水汽分析方法 第三十三部分:鈉的測(cè)定(二階微分火焰光譜法)》
《DL/T908-2004火力發(fā)電廠水汽試 驗(yàn)方法 鈉的測(cè)定 二階微分火陷光譜法》
《DL/T 386-2010 二階微分火焰光譜痕量鈉分析儀檢驗(yàn)規(guī)程》
《GB/T 12145-2016 火力發(fā)電機(jī)組及蒸汽動(dòng)力設(shè)備水汽質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》
儀器用途:
蒸汽鈉離子含量是反映發(fā)電廠水氣品質(zhì)的重要指標(biāo),機(jī)組在鈉離子含量超標(biāo)情況下長(zhǎng)期運(yùn)行會(huì)對(duì)汽輪機(jī)造成腐蝕、積鹽等危害。隨著機(jī)組參數(shù)的提高蒸汽中鈉離子的控制標(biāo)準(zhǔn)也越來(lái)越嚴(yán)格。
中國(guó)頒布的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《GB/T 12145-2016 火力發(fā)電機(jī)組及蒸汽動(dòng)力設(shè)備水汽質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》對(duì)水、汽中的Na+含量的控制標(biāo)做作出了極為嚴(yán)格的明確規(guī)定:過(guò)熱蒸汽、給水和凝結(jié)水除鹽后水的Na+的控制標(biāo)準(zhǔn)的期望值均為小于1μg/L(μg/kg)的痕量水平。
存在于超臨界、超超臨界(壓力大于22.115MPa溫度374℃)發(fā)電廠蒸汽動(dòng)力設(shè)備的工質(zhì)(水、汽)中的痕量Na+是火力發(fā)電廠、商業(yè)核電站補(bǔ)給水處理系統(tǒng)、給水系統(tǒng)、凝結(jié)水及凝結(jié)水精處理系統(tǒng)和過(guò)熱蒸汽系統(tǒng)中化學(xué)監(jiān)督的重要指標(biāo),痕量Na+測(cè)定的準(zhǔn)確性和可靠性直接影響熱力設(shè)備的安全運(yùn)行。因此準(zhǔn)確測(cè)定水、汽中痕量鈉的含量對(duì)電力生產(chǎn)的安全、經(jīng)濟(jì)運(yùn)行有著極其重要的意義。
TSA二階微分火焰光譜痕量鈉分析系統(tǒng)是一種專門(mén)用于檢測(cè)超臨界、超超臨界發(fā)電廠蒸汽動(dòng)力設(shè)備水、汽中“µg/L”(µg/kg)級(jí)痕量Na+的二階微分火焰發(fā)射光譜儀,這是高參數(shù)、大容量(亞臨界、超臨界、超超臨界)火力發(fā)電廠、商業(yè)核電站等實(shí)現(xiàn)和保證熱力設(shè)備安全運(yùn)行的極其重要而又必須配置的分析儀器。本儀器為火力發(fā)電廠商業(yè)核電站水汽中痕量鈉的現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)提供了一種圓滿的解決方案。
二、技術(shù)規(guī)范:
Na+濃度分析范圍:0.0µg/L-10µg/L,0.0µg/L-100µg/L范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào);
檢出限:≤0.1µg/L(Na+);
重復(fù)性(精密度):≤1.5% (FS);
30min穩(wěn)定性:≤3.0%;
線性相關(guān)系數(shù):≥0.995 ;
引用誤差:≤5%(FS);
試樣吸噴量:≥3ml/min ;
響應(yīng)時(shí)間:≤8s;
特征波長(zhǎng):589.0nm自動(dòng)掃描;
波長(zhǎng)分辨率:0.35nm;
波長(zhǎng)重復(fù)性:±0.1nm;
倒線色散:2.5nm/mm(1200 g/mm 光柵,焦距:320mm)。
三、性能特點(diǎn):
1、采用“波長(zhǎng)調(diào)制二階微分鈉光譜精密光柵單色儀”技術(shù),實(shí)現(xiàn)了對(duì)鈉原子特征譜線的快速掃描,生成和輸出穩(wěn)定的鈉的特征譜線的“二階導(dǎo)數(shù)譜”,具有*的自動(dòng)扣除連續(xù)背景干擾的功能,實(shí)現(xiàn)了對(duì)痕量鈉的準(zhǔn)確、可靠、穩(wěn)定、快速、方便的測(cè)量,鈉的檢出限達(dá)到了小于0.1μg/L的國(guó)際*技術(shù)水平。
2、本儀器采用美國(guó)TI公司的MSC1210芯片,集成了24位精度的A/D轉(zhuǎn)換器,具有更高的數(shù)據(jù)采樣頻率、更好的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換精度和可靠性。
3、在國(guó)內(nèi)外儀表軟件中首次采用六次平行測(cè)定數(shù)據(jù)的統(tǒng)計(jì)數(shù)值的算術(shù)平均數(shù)作為測(cè)量結(jié)果,大大提高了測(cè)量結(jié)果的重復(fù)性,同時(shí)自動(dòng)給出測(cè)量結(jié)果標(biāo)準(zhǔn)偏差和相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差與測(cè)量結(jié)果的不確定度。本儀器提供了兩種標(biāo)定方法:日常分析采用“二點(diǎn)標(biāo)定”,操作方便快速;測(cè)量、儀器檢定可采用“五點(diǎn)標(biāo)定”進(jìn)行線性回歸運(yùn)算。
4、儀器能智能化地進(jìn)行標(biāo)定和直接顯示測(cè)量結(jié)果,每次標(biāo)定后都能顯示和打印線性回歸曲線的圖形,自動(dòng)給出用于配制標(biāo)樣的高純水的“空白鈉含量”。
5、按照DL/T386-2010二階微分火焰光譜痕量鈉分析儀檢驗(yàn)規(guī)程的要求,全新升級(jí)的軟件能夠?qū)y(cè)定數(shù)據(jù)進(jìn)行功能強(qiáng)大的的智能化統(tǒng)計(jì)分析、通過(guò)誤差處理程序,排除異常誤差,再通過(guò)配套的軟件分析系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)光譜儀的智能化標(biāo)定和直接顯示測(cè)量結(jié)果,并具有強(qiáng)大的結(jié)果輸出功能, 可打印輸出A4紙格式的統(tǒng)計(jì)報(bào)表,包括:兩點(diǎn)法標(biāo)定曲線報(bào)表;線性相關(guān)系數(shù)報(bào)表;五點(diǎn)法標(biāo)定曲線報(bào)表;性能檢測(cè)報(bào)告:重復(fù)性報(bào)表;性能檢測(cè)報(bào)告:檢出限報(bào)表;性能檢測(cè)報(bào)告:100%量程檢驗(yàn)點(diǎn)引用誤差報(bào)表;性能檢測(cè)報(bào)告:50%量程檢驗(yàn)點(diǎn)引用誤差報(bào)表;性能檢測(cè)報(bào)告:空白檢驗(yàn)點(diǎn)引用誤差報(bào)表;性能檢測(cè)報(bào)告:儀器測(cè)量不確定度的評(píng)定報(bào)告;測(cè)定數(shù)據(jù)日?qǐng)?bào)表等11類報(bào)表。是目前國(guó)內(nèi)、外分析儀器中輸出測(cè)定數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)信息較全面的一種儀器。大大方便了現(xiàn)場(chǎng)分析數(shù)據(jù)的技術(shù)統(tǒng)計(jì)和管理,
6、通過(guò)計(jì)算機(jī)可以方便地進(jìn)行儀器標(biāo)定、負(fù)高壓調(diào)整、波長(zhǎng)微調(diào)、及歷史數(shù)據(jù)查詢與刪除。
四、技術(shù)背景:
1、TSA二階微分火焰光譜痕量鈉分析系統(tǒng)是深圳愛(ài)諾自主開(kāi)發(fā)的擁有獨(dú)立知識(shí)產(chǎn)權(quán)的國(guó)內(nèi)*的新產(chǎn)品,“號(hào):ZL03224297.2”;計(jì)量器具型式批準(zhǔn)證書(shū)號(hào):CPA 2000O003-44;制造計(jì)量器具許可證:CMC 粵制03000137號(hào)。
2、采用“號(hào):ZL03224297.2”的技術(shù)設(shè)計(jì)制作的波長(zhǎng)掃描單色儀,實(shí)現(xiàn)了對(duì)鈉原子特征譜線的快速掃描,生成和輸出穩(wěn)定的鈉的特征譜線的二階導(dǎo)數(shù)譜,具有*的自動(dòng)扣除連續(xù)背景干擾的功能,使儀器具有*的分析靈敏度精密度和穩(wěn)定性,是目前國(guó)內(nèi)外分析水溶液中“μg/㎏”級(jí)鈉含量的性能較可靠、結(jié)果較、操作較簡(jiǎn)便、性能價(jià)格比高的儀器。
3、TSA二階微分火焰光譜痕量鈉分析系統(tǒng)2000年通過(guò)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)研究中心(國(guó)家技術(shù)監(jiān)督總局授權(quán))的定型鑒定,各項(xiàng)技術(shù)性能指標(biāo)都達(dá)到或超過(guò)了相關(guān)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定指標(biāo),計(jì)量器具型式批準(zhǔn)證書(shū)號(hào):2000O003-44。是國(guó)內(nèi)*的高新技術(shù)產(chǎn)品。通過(guò)幾年來(lái)在國(guó)內(nèi)一批高參數(shù)大容量火力發(fā)電廠、熱工研究院、電力試驗(yàn)研究院(所)等單位的使用證明:《TSA-1型 二階微分火焰光譜痕量鈉智能分析儀》的各項(xiàng)性能指標(biāo)均能滿足電力生產(chǎn)過(guò)程中水汽質(zhì)量監(jiān)督的要求,具有快速、準(zhǔn)確、穩(wěn)定、操作簡(jiǎn)便和精密度高等五大優(yōu)點(diǎn)。本儀器亦可作為高等院校電廠化學(xué)高年級(jí)學(xué)生、研究生進(jìn)行水、汽分析試驗(yàn)和爐內(nèi)水工況研究的基本測(cè)試儀器,也可以為離子交換樹(shù)脂生產(chǎn)廠家進(jìn)行樹(shù)脂性能測(cè)試、新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)提供一種精密的分析儀器。
4、原國(guó)家經(jīng)濟(jì)貿(mào)易委員會(huì)于2002年12月19日下達(dá)的國(guó)經(jīng)貿(mào)電力(2002)973號(hào)文正式將《水汽試驗(yàn)方法 鈉的測(cè)定 二階微分火焰光譜法》標(biāo)準(zhǔn)的制定任務(wù)列入2003年度的電力行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)制定計(jì)劃,西安熱工研究院和深圳市愛(ài)諾實(shí)業(yè)有限公司共同承擔(dān)此標(biāo)準(zhǔn)的制定工作。2004年4月18日至20日,電力行業(yè)電廠化學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)在深圳市主持召開(kāi)了《火力發(fā)電廠水、汽試驗(yàn)方法 鈉的測(cè)定 二階微分火焰光譜法》行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的審查會(huì),由16名專家組成的審查委員會(huì)*通過(guò)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)《火力發(fā)電廠水、汽試驗(yàn)方法 鈉的測(cè)定 二階微分火焰光譜法》的審查。中華人民共和國(guó)國(guó)家發(fā)展和改革委員會(huì)2004年12月14日發(fā)布的2004年第75號(hào)公告已批準(zhǔn)DL/T908-2004電力行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)《水汽試驗(yàn)方法鈉的測(cè)定 二階微分火焰光譜法》正式發(fā)布并從2005年6月1日起實(shí)施。新頒布執(zhí)行的電力行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)是在國(guó)內(nèi)、外首次提出用“二階微分火焰光譜法”測(cè)定痕量鈉離子的新的方法。
五、典型用戶:
·大唐國(guó)際托克托發(fā)電有限責(zé)任公司;
·江西省電力科學(xué)研究院;
·西安熱工研究院有限責(zé)任公司;
·大唐華東電力科學(xué)研究院
·湖南省電力科學(xué)研究院化環(huán)室;
·湖北省電力科學(xué)研究院化環(huán)所;
·甘肅省電力科學(xué)研究院;
·安徽省電力科學(xué)研究院;
·福建省電力科學(xué)研究院;
·大連市鍋爐壓力容器檢測(cè)研究所;
·廣東粵電珠海發(fā)電廠;
·京能集團(tuán)內(nèi)蒙古集寧發(fā)電廠;
·天津大港發(fā)電廠;
·廣東粵電平海發(fā)電廠;
·華能廣東汕頭發(fā)電廠。
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